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Intel 5nm工藝曝光:直逼IBM 2nm

發(fā)布時間:2022-03-17作者來源:薩科微瀏覽:1922

作為半導體工業(yè)中的核心,芯片制造是最關鍵也是最難的,進入10nm節(jié)點之后全球現(xiàn)在也就是臺積電、Intel、三星三家公司選擇繼續(xù)玩下去。表面來看Intel的進度是最慢的,然而其他兩家的工藝“水分”也不小,三星的3nm工藝密度才跟Intel的7nm差不多。  
  Digitimes日前發(fā)表了研究報告,分析了三星、臺積電、Intel及IBM四家的半導體工藝密度問題,對比了10nm、7nm、5nm、3nm及2nm的情況。  
   
  在10nm節(jié)點,三星的晶體管密度只有0.52億/mm2,臺積電是0.53億/mm2,Intel已經達到了1.06億/mm2,密度高出一倍左右。  
  7nm節(jié)點,三星的工藝密度是0.95億/mm2,臺積電是0.97億/mm2,Intel的7nm則是1.8億/mm2,依然高出80%以上。  
  再往后的5nm節(jié)點上,三星實現(xiàn)了1.27億/mm2的密度,臺積電達到了1.73億/mm2,Intel的目標是3億/mm2,三星與其他兩家的差距愈發(fā)拉大。  
  到了3nm節(jié)點,臺積電的晶體管密度大約是2.9億/mm2,三星只有1.7億/mm2,Intel的目標是5.2億/mm2。  
  2nm節(jié)點沒多少數(shù)據(jù),IBM之前聯(lián)合三星等公司發(fā)布的2nm工藝密度大約是3.33億/mm2,臺積電的的目標是4.9億/mm2。  
  以上數(shù)據(jù)其實不能100%反映各家的技術水平,還要考慮到性能、功耗、成本的差距,但就摩爾定律關注的密度來看,Intel在這方面基本還是按照之前的規(guī)范走的,三星、臺積電工藝宣傳注水也不是什么新聞了。  
 

當然,三星這方面的浮夸可能更多一些,3nm節(jié)點的密度也不過是Intel的7nm水平,Intel的5nm工藝都能夠直逼IBM 2nm水平,不知道這該說Intel太老實還是其他公司太滑頭呢?





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