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碳化硅外延技術(shù)突破或改變產(chǎn)業(yè)格局

發(fā)布時間:2022-03-17作者來源:薩科微瀏覽:2300



我國碳化硅產(chǎn)業(yè)或迎來史詩級利好


 
  進(jìn)入2021年以來,在碳化硅外延領(lǐng)域,國內(nèi)外企業(yè)紛紛捷報連連。  
  2021年3月1日,日本豐田通商株式會社正式宣布成功開發(fā)出一種表面納米控制技術(shù)——Dynamic AGE-ing。該技術(shù)可以讓任何尺寸、任意供應(yīng)商的SiC襯底的BPD(基平面位錯)降低到1以下。  
    圖1 豐田Dynamic AGE-ing技術(shù)  
  無獨有偶,2021年3月3日,瀚天天成電子科技(廈門)有限公司發(fā)布消息稱,突破了碳化硅超結(jié)深槽外延關(guān)鍵制造工藝。  
    碳化硅超結(jié)深槽外延關(guān)鍵制造工藝  
  碳化硅外延是碳化硅產(chǎn)業(yè)鏈中的重要一環(huán)。如今碳化硅外延技術(shù)的發(fā)展步入快車道,會對整個碳化硅外延生態(tài)圈產(chǎn)生什么影響呢?請容我一一道來。  
           

或?qū)⒏淖儑H碳化硅外延產(chǎn)業(yè)格局


   
   碳化硅產(chǎn)業(yè)鏈主要分為晶片制備、外延生長、器件制造、模塊封測和系統(tǒng)應(yīng)用等幾個重要的環(huán)節(jié)。其中外延生長是承上啟下的重要環(huán)節(jié),具有非常關(guān)鍵的作用。  
    圖3 碳化硅產(chǎn)業(yè)鏈   因為現(xiàn)有器件基本都是在外延層上實現(xiàn)的,所以對外延層質(zhì)量的要求就非常之高。而且隨著耐壓性能的不斷提高,所要求的外延層的厚度就越厚。一般電壓在600V左右時,所需要的外延層厚度約在6微米左右;電壓在1200-1700V之間時,所需要的外延層厚度就達(dá)到10-15微米。如果電壓達(dá)到一萬伏以上時,可能就需要100微米以上的外延層厚度。而隨著外延層厚度的不斷增加,對厚度和電阻率均勻性以及缺陷密度的控制就變得愈發(fā)困難。  
  目前,碳化硅外延的主流技術(shù)包括斜切臺階流技術(shù)和TCS技術(shù)等等。  
  所謂斜切臺階流技術(shù)即切割碳化硅襯底時切出一個8°左右的偏角。這樣切出的襯底表面出產(chǎn)生很高的臺階流密度,從而容易實現(xiàn)晶圓級碳化硅外延。目前,斜切臺階流技術(shù)已經(jīng)比較成熟。但是該技術(shù)也有兩個缺陷:一是該技術(shù)無法阻斷基平面位錯;二是該技術(shù)會對襯底材料造成浪費。  
  為了突破臺階流技術(shù)的限制,人們又嘗試在反應(yīng)腔中加入含氯元素的硅源,最終通過不斷地完善開發(fā)出TCS等技術(shù)。目前,碳化硅外延技術(shù)已與碳化硅外延設(shè)備高度融合。2014年,TCS等技術(shù)由意大利LPE公司最早實現(xiàn)商業(yè)化,在2017年AIXTRON公司對設(shè)備進(jìn)行了升級改造,將這個技術(shù)移植到了商業(yè)的設(shè)備中。  
  目前,碳化硅外延設(shè)備主要由意大利的LPE公司、德國AIXTRON公司以及日本Nuflare公司所壟斷。  
    全球碳化硅產(chǎn)業(yè)格局    
       

圖5 現(xiàn)有碳化硅外延設(shè)備分析


預(yù)計到2023年碳化硅外延設(shè)備的年復(fù)合增長率有望超過50%。        
      圖6 碳化硅外延設(shè)備市場前景    
  隨著新興碳化硅外延技術(shù)的崛起,這個幾十億規(guī)模的產(chǎn)業(yè)或?qū)⒂瓉硇乱惠喌南磁啤? 
             

或?qū)⒋呤煳覈蓟枰r底材料產(chǎn)業(yè)


 
  碳化硅是第三代半導(dǎo)體材料的典型代表,按照用途不同,可以分成珠寶級碳化硅材料、電力電子器件用N型碳化硅材料和功率射頻器件用半絕緣碳化硅材料。雖然,近年來珠寶級碳化硅材料和半絕緣碳化硅材料的市場增長迅猛,但是N型碳化硅材料才是未來市場[敏感詞]的主角。  
  相對于珠寶級碳化硅和半絕緣碳化硅材料,N型碳化硅材料對晶體質(zhì)量的要求更高。在該領(lǐng)域,我國碳化硅襯底企業(yè)與CREE公司國際一流企業(yè)還存在一定的差距。  
  如果諸如豐田研發(fā)的Dynamic AGE-ing等技術(shù)可以大規(guī)模在我國應(yīng)用,那么N型碳化硅襯底材料的入場門檻無疑將會大幅度降低。據(jù)中國電子材料行業(yè)協(xié)會半導(dǎo)體材料分會統(tǒng)計,我們已經(jīng)上馬了30多個碳化硅襯底材料項目,投資已超300億元。但是因為缺陷等技術(shù)原因,N型碳化硅襯底的產(chǎn)能遲遲不能釋放。如果碳化硅外延技術(shù)獲得關(guān)鍵突破,對我國碳化硅襯底材料企業(yè)而言,這無異于開閘放水。    
           

或?qū)⑼苿游覈蓟杵骷a(chǎn)業(yè)


   
   雖然我國投資的碳化硅襯底項目已經(jīng)有30多個,但是市場需求量[敏感詞]的6英寸N型碳化硅晶片依然嚴(yán)重依賴進(jìn)口。碳化硅襯底和外延的成本目前占到碳化硅模塊總成本的50%以上,如果該問題不得到解決,我國碳化硅產(chǎn)業(yè)相比于美國很難有什么太大的競爭力。  
  市場研究單位Yole指出,碳化硅電力電子產(chǎn)業(yè)發(fā)展具高度潛力,包括ROHM、Bombardier、Cree、SDK、STMicroelectronics、Infineon Technologies、Littelfuse、Ascatron等廠商都大力投入。Yole預(yù)測到2023年SiC功率半導(dǎo)體市場規(guī)模預(yù)計將達(dá)14億美元,2016年至2023年間的復(fù)合成長率(CAGR)為28%,2020~2022年CAGR將進(jìn)一步提升至40%。     

總而言之,未來前景廣闊,但是國內(nèi)各位碳化硅業(yè)界同仁還應(yīng)勉勵向前。


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